洁净厂房内应设置人员净化、物料净化用室和设施,并应根据需要设置生活用室和其它用室。
人员净化用室和生活用室的设置应为:
1 人员净化用室,应包括雨具存放、换鞋、管理、存外衣、更洁净工作服等房间。
2 厕所、盥洗室、淋浴室、休息室等生活用室以及空气吹淋室、气闸室、工作服洗涤间和干燥间等其它用室,可根据需要设置。
人员净化用室和生活用室的设计,应符合下列要求:
1 人员净化用室的入口处,应设净鞋措施。
2 存外衣和更洁净工作服应分别设置。
3 外衣存衣柜应按设计人数每人设一柜,洁净工作服宜集中挂入带有空气吹淋的洁净柜内。
4 盥洗室应设洗手和烘干设施。
5 空气吹淋室应设在洁净区人员入口处,并应与洁净工作服更衣室相邻。单人空气吹淋室按至大班人数每30人设一台。洁净区工作人员超过5人时,空气吹淋室一侧应设旁通门。
6 当为5级以上垂直单向流洁净室时,宜设气闸室。
7 洁净区内不宜设厕所。人员净化用室内的厕所应设前室。
根据不同的空气洁净度等级和工作人员数量,洁净厂房内人员净化用室和生活用室的建筑面积应合理确定。一般宜按洁净区设计人数平均每人2~4m2计算。洁净工作服更衣室的空气洁净度等级宜按低于相邻洁净区空气洁净度等级1~2级设置。
洁净工作服洗涤室的空气洁净度等级不宜低于8级。
洁净室内设备和物料出入口,应根据设备和物料的性质、形状等特征设置物料净化用室及其设施。物料净化用室的布置,应防止净化后物料在传递过程中被污染。
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,gmp厂房净化,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,黑河厂房净化,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,医疗器械厂房净化,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
洁净室是一种现代的事物。尽管洁净室设计与管理之源,电子厂房净化方案,可追溯到100多年前医院中的抗感染措施。但生产制造业对洁净环境的需求却是在现代社会才提出的。制造业之所以需要洁净室,是因为人员、生产设备、建筑物都会产生污染。正如所说明的那样,人员和设备可产生几百万个粒子,而一般的建筑材料也容易破碎。但洁净室可以控制粒子的传播,从而使产生得以在洁净环境中进行。
洁净室的应用形式有多种多样,应用洁净室的一些工业领域