洁净厂房净化_聊城厂房净化_山东康德莱净化
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山东康德莱净化工程有限公司是专业从事洁净技术研究、净化厂房的设计、无尘车间施工、净化厂房检测及洁净技术人员培训的高技术企业。
在各类厂房的建筑设计中，无尘厂房净化，都存在不同程度的粉尘污染，包括化工制药、食品加工、冶金、铸造、碳素材料、机械加工、建材等行业，特别是在制药生产线、压片机、制粒机、混合机、配料、拌料、振筛、粉碎机、称量、套胶囊、中药前处理等制药工艺中，都要求对空气进行除尘净化。一个完整的除尘系统应包括以下几个过程：
1.用排尘罩捕集工艺过程产生的含尘气体。
2.捕集的含尘气体在风机的作用下，沿风道输送到除尘设备中。
3.在除尘设备中将粉尘分离出来。
4.净化后的气体排至大气。
5.收集与处理分离出来的粉尘。
因此，产业建筑的除尘系统主要由排尘罩、风管、风机、除尘设备、输粉尘装置等组成。也就是说，净化的厂房净化，除尘系统是由风道将排尘罩、风机、除尘设备连接起来的一个局部机械排风系统。
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
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